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ASML是全球唯逐一家量产EUV光刻机的厂商,而无论是台积电、三星、英特尔的7nm、5nm及未来的3nm、2nm制程晶片,都要依赖他们提供EUV光刻机。遵照已往的数据,现在EUV光刻机一台的售价就跨越1亿美元,成本极高,然则依然求过于供。

同时,对于半导体厂商来说,他们更急着的,是ASML何时才气推出第二代的EUV光刻机。

ASML的EUV光刻机现在使用的照样第一代,EUV光源波长在13.5nm左右,物镜的NA数值孔径是0.33,生长了一系列型号。

其中最早量产出厂的是NXE:3400B,产能有限,一小时生产晶圆是125PWH,现在的出货主力是NXE:3400C,产能提升到135WPH,今年底另有NXE:3600D系列出货,产能再进一步提升到160WPH,不外价钱也会提升到1.45亿美元了。

然则,现在第一代的EUV光刻机的NA指标太低,剖析度不够。以是半导体厂商的奈米制程也无法突破。而在ASML的设计中,第二代EUV光刻机的型号将是N XE:5000系列,其物镜的NA将提升到0.55,进一步提高光刻精度,半导体工艺想要突破1nm制程,就必须靠第二代光刻机。

然而NA 0.55的二代EUV光刻机没那么容易,原本预计最快2023年问世,现在,又有听说示意NXE:5000系列已经跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能问世了。

不仅时间延期,二代EUV光刻机的价钱也会大涨,预计会到达3亿美元,是现有EUV光刻机的2-3倍,这就意味着未来的高阶晶片的生产成本再度提升,就算真的到达1nm制程,也不见得付得起这个生产价钱。

 

 

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