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ASML是全球唯逐一家量产EUV光刻机的厂商，而无论是台积电、三星、英特尔的7nm、5nm及未来的3nm、2nm制程晶片，都要依赖他们提供EUV光刻机。遵照已往的数据，现在EUV光刻机一台的售价就跨越1亿美元，成本极高，然则依然求过于供。
同时，对于半导体厂商来说，他们更急着的，是ASML何时才气推出第二代的EUV光刻机。
ASML的EUV光刻机现在使用的照样第一代，EUV光源波长在13.5nm左右，物镜的NA数值孔径是0.33，生长了一系列型号。
其中最早量产出厂的是NXE：3400B，产能有限，一小时生产晶圆是125PWH，现在的出货主力是NXE:3400C，产能提升到135WPH，今年底另有NXE:3600D系列出货，产能再进一步提升到160WPH，不外价钱也会提升到1.45亿美元了。
然则，现在第一代的EUV光刻机的NA指标太低，剖析度不够。以是半导体厂商的奈米制程也无法突破。而在ASML的设计中，第二代EUV光刻机的型号将是N XE：5000系列，其物镜的NA将提升到0.55，进一步提高光刻精度，半导体工艺想要突破1nm制程，就必须靠第二代光刻机。
然而NA 0.55的二代EUV光刻机没那么容易，原本预计最快2023年问世，现在，又有听说示意NXE:5000系列已经跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能问世了。
不仅时间延期，二代EUV光刻机的价钱也会大涨，预计会到达3亿美元，是现有EUV光刻机的2-3倍，这就意味着未来的高阶晶片的生产成本再度提升，就算真的到达1nm制程，也不见得付得起这个生产价钱。
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